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化學(xué)氣相沉積設(shè)備
基片臺尺寸：Φ200mm;
電源:RF 500W;
真空腔室結(jié)構(gòu)：立式上開蓋結(jié)構(gòu)；
真空腔室尺寸：Φ350×H300mm；
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基片臺尺寸：Φ200mm;
電源:RF 500W;
真空腔室結(jié)構(gòu)：立式上開蓋結(jié)構(gòu)；
真空腔室尺寸：Φ350×H300mm；
化學(xué)氣相沉積設(shè)備產(chǎn)品概述
1.適用范圍：化學(xué)氣相沉積設(shè)備適用于各單位實驗室、高校實驗室、教學(xué)等項目的科研、產(chǎn)品中試。
2.產(chǎn)品優(yōu)點及特點：適用于硬涂層等膜的制備，以及等離子體的清洗。
3.主要用途:化學(xué)氣相沉積設(shè)備主要用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、W、Ti-Si、Gasb等介電、金屬膜。
| 型號 | PE 350 |
| 真空腔室結(jié)構(gòu) | 立式上開蓋結(jié)構(gòu) |
| 真空腔室尺寸 | Φ350×H300mm |
| 基片臺尺寸 | Φ200mm |
| 襯底溫度 | 500±5℃ |
| 電源 | RF 500W |
| 控制方式 | PLC控制 |
| 占地面積 | 主機L1600×W800×H1700mm |
| 總功率 | ≥6KW |
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