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蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的概念：

1.其厚度均勻性，也可理解為粗糙性，用光學(xué)薄膜(即1/10波長(zhǎng)表示)約100A)真空鍍層的均勻性已相當(dāng)高，可輕松控制可見(jiàn)光波長(zhǎng)的粗糙度至1/10。也就是說(shuō)，真空鍍膜，沒(méi)有任何阻礙作用。但在原子層尺度下，要想達(dá)到10A甚至1A的均勻性，具體控制因素如下：膜層的不同情況，要做詳細(xì)的鍍膜說(shuō)明。

2.蒸發(fā)鍍膜設(shè)備真空鍍膜機(jī)中化學(xué)成分的一致性：即在膜層內(nèi)，由于化合物原子組尺寸較小，很容易形成不均，所以鍍膜時(shí)，若鍍不科學(xué)，因此，實(shí)際表面的組分不是SiTiO3，但也可以采用其它比例，得到的涂層與預(yù)期薄膜的化學(xué)成分無(wú)關(guān)。也就是真空鍍的技術(shù)含量。以下也列出了一些具體因素。

3.格排列的均勻性：這決定著膜是否為單晶、多晶、非晶態(tài)，是真空鍍膜技術(shù)的一個(gè)研究熱點(diǎn)。

蒸發(fā)層：通常是加熱的靶材，使表面組成原子團(tuán)或離子蒸發(fā)。

蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的厚度均勻性主要取決于：

1.襯底和靶材之間的晶格匹配程度。

2.襯底表面溫度。

3.蒸發(fā)功率、速率。

4.真空度

5.涂層時(shí)間、厚度尺寸。

組分均勻性：無(wú)法保證鍍層成分的均勻性，可調(diào)因素相同，但由于原理的限制，對(duì)非單組分鍍層的成分均勻性較差。