蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的介紹與應(yīng)用
真空蒸發(fā)涂層方法：將涂層基材加熱到真空涂層機的電極上，蒸發(fā)成氣體。由于涂層室處于真空狀態(tài)，氣體膜材料的運輸不會受到阻礙，最終沉積在基板表面，形成均勻的膜。
整個過程分為三個步驟：
1.膜材料的蒸發(fā)過程需要確定條件：膜材料的蒸發(fā)溫度、膜材料的較佳蒸發(fā)壓力、膜材料的蒸發(fā)率。
2.膜材料蒸發(fā)過程中需要確定的條件：在涂層過程中，真空室的真空度應(yīng)高于10-2Pa，真空度應(yīng)為固定值，而不是越高越好。
3.當(dāng)逃逸顆粒到達(dá)基底表面形成膜時，需要確定條件：適當(dāng)提高蒸發(fā)率有利于形成高純度膜。
蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的操作過程。
以濺射涂層為例；濺射涂層法的原理是用荷能離子轟擊靶材，激射靶材上的分子或原子，最終形成膜。
蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的運行過程。
影響濺射產(chǎn)量的因素有：進射離子的能量大小。目標(biāo)材料的類型。進射離子的類型。轟擊離子的進射角和目標(biāo)材料的溫度?？刂颇繕?biāo)材料的類型可以大大提高濺射產(chǎn)量。
該設(shè)備集磁控濺射和離子涂層技術(shù)于一體，為提高色彩一致性、沉積率和化合物成分穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選擇加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等設(shè)備，目標(biāo)分布可靈活調(diào)整，膜均勻性優(yōu)越，涂層性能更好的復(fù)合膜。設(shè)備涂層具有附著力強、密度高的優(yōu)點，能有效提高耐鹽霧、耐磨性和表面硬度，滿足高性能膜系統(tǒng)的要求。
需要準(zhǔn)備?？捎糜诓讳P鋼、水鍍五金/塑料件、玻璃、陶瓷等材料；可制備金屬化合物膜，如Tin/TiCN/TiCN/TiO2/TiAlN/Crn/Zrn/CrC；可實現(xiàn)深黑色。爐內(nèi)金。玫瑰金。仿金。鋯金。寶石藍(lán)。亮銀色等顏色。
蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于電子五金、鐘表、珠寶、品牌皮具五金等。
以上就是小編為大家介紹的蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，感謝大家耐心的閱讀！
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