極限真空:≤8.0×10-4Pa;
設備升壓率:≤0.8Pa/H;
耐高溫絲架:高純鉬絲架;
極限真空:≤8.0×10-4Pa;
設備升壓率:≤0.8Pa/H;
耐高溫絲架:高純鉬絲架;
一、功能描述:
1.可用于沉積金剛石涂層厚膜,直徑200毫米的基片上厚度可達到毫米級;
2.可用于沉積刀具涂層,例:納米涂層、DLC等;
3.可用于沉積模具涂層,例:拉絲模、緊壓模等;
4.可用于開發(fā)導電涂層應用,例:防腐蝕電極等;
5.可提供成套熱絲化學氣相沉積生長金剛石設備燒絲工藝及厚膜生長基本工藝支持。
二、技術性能指標:
1.真空腔室尺寸 | Ф600×H500mm,不銹鋼雙層水冷,前開門結(jié)構(gòu); 前面1套、側(cè)面2套觀察窗; |
2.極限真空、抽氣 速率 | 極限真空:≤8.0×10-4Pa; 恢復真空抽氣時間:從大氣抽至8×10-3Pa≤30min; 工作真空: 8×10-3Pa~10kPa; |
3.設備升壓率 | ≤0.8Pa/H; |
4.水冷旋轉(zhuǎn)生長臺 | 有效沉積直徑200mm; 升降調(diào)節(jié)范圍距絲100mm可調(diào); 旋轉(zhuǎn)速度0~3RPM可調(diào); |
5.耐高溫絲架 | 高純鉬絲架,絲間距可調(diào)節(jié); |
6.電源 | 熱絲電源:30kW; 偏壓電源:5000W; |
7.電氣控制 | PC+液晶屏,可實現(xiàn)手動、半自動、全自動控制(可選); 具有斷水自動報警保護系統(tǒng),以防生長基體被損壞; |
8.交鑰匙 | (用戶可選,設計工藝技術轉(zhuǎn)讓,價格面議) |
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