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高真空有機金屬蒸發(fā)鍍膜機ZHD350

蒸發(fā)鍍膜設備

市場價:0.00

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1.真空腔室：Φ350×H400mm； 2.真空極限：≤5.0×10-5Pa； 3.漏率：≤0.8Pa/h； 4.基片臺尺寸：Φ100mm范圍內(nèi)可裝卡各種規(guī)格基片；
高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機 ZHD400

蒸發(fā)鍍膜設備

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<wxwork-data data-type="ChatMessage" data-version="3.1.20.11441"></wxwork-data>真空腔室:304真空專用不銹鋼，L400×W440×H450mm；方形前開門結(jié)構； 真空指標:極限真空優(yōu)于6.6×10-5Pa（設備空載抽真空24小時）； 設備保壓：停泵12小時候后，真空≤10Pa； 抽速:空載從大氣抽至8.0×10-4Pa≤45min；
高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機 ZHD300

蒸發(fā)鍍膜設備

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<wxwork-data data-type="ChatMessage" data-version="3.1.20.11441"></wxwork-data>真空腔室:Φ300×H360mm，304優(yōu)質(zhì)不銹鋼真空腔室； 真空極限:≤8.0×10-5Pa； 設備保壓：停泵12小時候后，設備真空度≤10Pa；可鍍基片尺寸/面積：Φ100mm范圍內(nèi)可裝卡各種規(guī)格基片；
高真空有機/金屬蒸發(fā)鍍膜機 ZHDS400

蒸發(fā)鍍膜設備

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<wxwork-data data-type="ChatMessage" data-version="3.1.20.11441"></wxwork-data>極限真空：優(yōu)于5.0×10-5Pa； 抽速：從大氣抽至8.0×10-4Pa≤40min； 設備升壓率：≤0.8Pa/h； 設備保壓：停泵12小時候后，設備真空度≤10Pa；
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機 TEMD600

蒸發(fā)鍍膜設備

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<wxwork-data data-type="ChatMessage" data-version="3.1.20.11441"></wxwork-data>真空腔室:腔室內(nèi)尺寸Φ600×750mm，不銹鋼腔室通水冷卻； 極限真空:空載優(yōu)于5.0×10-5Pa（設備空載抽真空24小時）； 抽速:空載從大氣抽至5.0×10-4Pa≤40min； 漏率:設備升壓率≤0.8Pa/h；
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機 TEMD500

蒸發(fā)鍍膜設備

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<wxwork-data data-type="ChatMessage" data-version="3.1.20.11441"></wxwork-data>真空腔室:腔室內(nèi)尺寸Φ500×600mm，不銹鋼腔室配水線； 極限真空:空載優(yōu)于6.0×10-5Pa（設備空載抽真空24小時）； 抽速:空載從大氣抽至6.0×10-4Pa≤30min； 漏率:設備升壓率≤0.8Pa/h；