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一、整機簡述

特點/用途

ZHD350高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機配4組蒸發(fā)源，兼容金屬材料蒸發(fā)與有機材料蒸發(fā)；該設(shè)備主機與控制一體化設(shè)計，PLC觸摸屏控制，操控方便，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小；該系列設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實驗以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等，深受廣大用戶好評。

其主要用途有：

1. 適用于鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復(fù)合膜，例：銅、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等；

2. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜；例：氧化鉬、氟化鋰等；

3. 適用于有機材料蒸發(fā)；

4. 適用于掃描電鏡制樣；

5. 適用于太陽能電池、LED的研究和實驗。

二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)

1.真空腔室

Φ350×H400mm（具體尺寸以實際設(shè)計為準），304優(yōu)質(zhì)不銹鋼真空腔室；前門材質(zhì)為鍛鋁，表面處理采用鋁氧化工藝。腔室烘烤：室溫-150℃，清除吸附在腔體表面的殘留物。

2.真空極限

≤5.0×10-5Pa；（設(shè)備空載）；

3.漏率

設(shè)備升壓率：≤0.8Pa/h；

設(shè)備保壓：停泵12小時候后，設(shè)備真空度≤8Pa；

4.基片臺尺寸

可鍍基片尺寸/面積：Φ100mm范圍內(nèi)可裝卡各種規(guī)格基片；

5.基片臺水冷/旋轉(zhuǎn)

基片臺溫度：10～35℃，旋轉(zhuǎn)速度：0-20轉(zhuǎn)/分鐘；

6.蒸發(fā)源及電源

3對水冷式蒸發(fā)電極；1臺3000W金屬蒸發(fā)電源切換3組蒸發(fā)電極；

有機源：有機蒸發(fā)源（溫度600°），1組；

有機控溫蒸發(fā)電源：1套（獨立PID智能溫控蒸發(fā)）

7.膜厚不均勻性

≤±5%（基片臺Φ80mm范圍內(nèi)）；

8.控制方式

PLC+觸摸屏控制方式；

9.報警及保護

對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執(zhí)行相應(yīng)保護措施；完善的邏輯程序互鎖保護系統(tǒng)。