高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī) ZHD400
真空指標(biāo):極限真空優(yōu)于6.6×10-5Pa（設(shè)備空載抽真空24小時(shí)）；
設(shè)備保壓：停泵12小時(shí)候后，真空≤10Pa；
抽速:空載從大氣抽至8.0×10-4Pa≤45min；
真空指標(biāo):極限真空優(yōu)于6.6×10-5Pa（設(shè)備空載抽真空24小時(shí)）；
設(shè)備保壓：停泵12小時(shí)候后，真空≤10Pa；
抽速:空載從大氣抽至8.0×10-4Pa≤45min；
一、整機(jī)簡(jiǎn)述
特點(diǎn)/用途
ZHD400高真空電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，配4組蒸發(fā)源；適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機(jī)膜等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等。
該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì)，PLC觸摸屏控制，操控方便，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等，深受廣大用戶好評(píng)。
其主要用途有：
1. 適用于鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復(fù)合膜，例：銅、鎂、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等；
2. 適用于太陽能電池、LED的研究和實(shí)驗(yàn)；
3. 適用于有機(jī)材料等蒸發(fā)；
4. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜；例：氧化鉬、氟化鋰等；
5. 適用于掃描電鏡制樣等。
二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)
1.真空腔室
304真空專用不銹鋼，L400×W440×H450mm；方形前開門結(jié)構(gòu)；
2.真空系統(tǒng)
磁懸浮分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空擋板閥，“兩低一高”數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)；
3.真空指標(biāo)
極限真空優(yōu)于6.6×10-5Pa（設(shè)備空載抽真空24小時(shí)）；
設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h；
設(shè)備保壓：停泵12小時(shí)候后，真空≤10Pa；
4.抽速
空載從大氣抽至8.0×10-4Pa≤45min；
5.基片臺(tái)
抽屜式結(jié)構(gòu)，承載小于120×120mm基片；
電機(jī)驅(qū)動(dòng)基片臺(tái)旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)速度0～20轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào)；
手動(dòng)升降，升降基片臺(tái)可調(diào)節(jié)范圍70mm ；
可根據(jù)要求定制1種掩膜板（客戶提供掩膜圖案）；
6.基片臺(tái)加熱
加熱溫度：300℃，PID智能溫控閉環(huán)控制；
7.蒸發(fā)源
①金屬源：水冷銅電極 2組；
逆變式蒸發(fā)電源，功率3000W； 1臺(tái)；
②有機(jī)源：有機(jī)蒸發(fā)源（
溫度600°），2組；
有機(jī)控溫蒸發(fā)電源：2套（獨(dú)立PID智能溫控蒸發(fā)）；
③每組蒸發(fā)源配氣動(dòng)擋板及源間防污隔板；
8.膜厚控制系統(tǒng)
配進(jìn)口晶振膜厚儀在線監(jiān)測(cè)、控制膜厚；
9.控制方式
采用PLC+觸摸屏半自動(dòng)控制；
10.報(bào)警及保護(hù)
對(duì)泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施；完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)。
11.占地面積
主機(jī)L1710mm×W850mm×H1850mm
Products
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