高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī) ZHD300
真空極限:≤8.0×10-5Pa；
設(shè)備保壓：停泵12小時(shí)候后，設(shè)備真空度≤10Pa；可鍍基片尺寸/面積：Φ100mm范圍內(nèi)可裝卡各種規(guī)格基片；
真空極限:≤8.0×10-5Pa；
設(shè)備保壓：停泵12小時(shí)候后，設(shè)備真空度≤10Pa；可鍍基片尺寸/面積：Φ100mm范圍內(nèi)可裝卡各種規(guī)格基片；
一、整機(jī)簡述
特點(diǎn)/用途
ZHD300高真空電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)配2組蒸發(fā)源，兼容金屬材料蒸發(fā)與有機(jī)材料蒸發(fā)；該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì)，PLC觸摸屏控制，操控方便，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小；該系列設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等，深受廣大用戶好評(píng)。
其主要用途有：
1. 適用于鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復(fù)合膜，例：銅、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等；
2. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜；例：氧化鉬、氟化鋰等；
3. 適用于有機(jī)材料蒸發(fā)；
4. 適用于掃描電鏡制樣；
5. 適用于太陽能電池、LED的研究和實(shí)驗(yàn)。
二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)
1.真空腔室
Φ300×H360mm，304優(yōu)質(zhì)不銹鋼真空腔室；
2.真空系統(tǒng)
復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真閥門高真空系統(tǒng)，數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)；
3.真空極限
≤8.0×10-5Pa；（設(shè)備空載抽真空24小時(shí)）；
4.漏率
設(shè)備升壓率：≤0.8Pa/h；
設(shè)備保壓：停泵12小時(shí)候后，設(shè)備真空度≤10Pa；
5.抽速
從大氣抽至5.0×10-3Pa≤13min；（設(shè)備空載）
6.基片臺(tái)尺寸
可鍍基片尺寸/面積：Φ100mm范圍內(nèi)可裝卡各種規(guī)格基片；
7.基片臺(tái)旋轉(zhuǎn)
旋轉(zhuǎn)速度：0-20轉(zhuǎn)/分鐘；
8.蒸發(fā)源及電源
2對(duì)水冷式蒸發(fā)電極；1臺(tái)2000W金屬蒸發(fā)電源；
9.膜厚不均勻性
≤±5%（基片臺(tái)Φ80mm范圍內(nèi)）；
10.控制方式
PLC+觸摸屏控制方式；
11.報(bào)警及保護(hù)
對(duì)泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施；完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)。
12.占地面積
主機(jī)L1100mm×W800mm
Products
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