硬質(zhì)涂層鍍膜設(shè)備用于：科研、半導(dǎo)體、工具、刀具、模具、零件、醫(yī)療器械、光學(xué)、新能源等領(lǐng)域?？呻婂傾ltin、TiAlN、AltiXN、Altixn、TiSin、CrN、TiNTa-cr+a-c、Cr+a-c:HW+a-c:H等碳元素Cr+a-c:HCrN+a-c:H等PECVD涂層。
隨著國(guó)外硬漆真空涂料設(shè)備的發(fā)展、現(xiàn)狀和未來，隨著加工工藝的不斷提高，硬質(zhì)涂層鍍膜設(shè)備市場(chǎng)的市場(chǎng)規(guī)模也在擴(kuò)大。根據(jù)市場(chǎng)份額，工具用硬涂料主要為：刀具涂料70%，模具涂料25%，無(wú)零件涂料5%。制備方法主要包括陰極弧離子鍍和磁控濺射。真空鍍膜設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)制備?；『概c磁控濺射技術(shù)的區(qū)別在于，弧焊效率達(dá)到90%以上，沉積速度快，但也存在液滴問題；磁控濺射平面平整，但離化率低，沉積率低。
現(xiàn)在，這兩種技術(shù)都在不斷進(jìn)步。磁控濺射技術(shù)也在不斷發(fā)展。封閉磁場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)可以顯著提高其離化率，這是提高磁控濺射膜質(zhì)量的關(guān)鍵。隨著中頻孿生磁控和非平衡磁控濺射技術(shù)的發(fā)展，磁控濺射真空涂層設(shè)備獲得了類似弧形的優(yōu)質(zhì)涂層。
未來，隨著工業(yè)需求的增加，濺射涂層設(shè)備具有許多優(yōu)點(diǎn)，對(duì)硬質(zhì)涂層鍍膜設(shè)備提出了更高的要求。超硬涂層和低摩擦系數(shù)涂層是涂層發(fā)展的兩個(gè)方向。
1.硬度超過40GPa的超硬涂層通常是指硬度超過40的硬膜。涂層成分:1)50-100微米的金剛石涂層的硬度與晶體取向有關(guān)。
2.立方氮化硼(e-BN)涂層(硬度50-80GPa)
3.金剛石涂層(DLC為10GPa-60GPa，由于過程中硬度可能發(fā)生變化)
4.碳氮涂層(CNx，硬度達(dá)到15GPa-50GPa)
5.納米復(fù)合涂層和納米多層膜(Tin/NbN納米多層膜層硬度分別為51GPa、TiYN/VN納米涂層，硬度達(dá)到78GPa)
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