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離子濺射鍍膜機(jī)的操作流程

1.一般工作距離可調(diào)，距離越近，濺射速度越快，但熱損傷會增加。

2.通過控制真空壓力實現(xiàn)離子流的大小，真空度越低，I濺射速度越快，原子晶粒越粗，電子轟擊樣品(陽極)產(chǎn)生的熱量越高；真空度越高，I濺射速度越小，原子晶粒越小，電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量越小。

3.加速電壓固定可調(diào)。加速電壓越高，對樣品的熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區(qū)域。

4.一些熱敏樣品需要冷卻樣品區(qū)域、水冷卻或帕爾貼冷卻；磁控裝置也可以像電磁透鏡一樣使用電子偏離樣品。經(jīng)過這樣的改造，當(dāng)然會增加很高的成本。石蠟表面可以濺一層金屬壞！

5.真空中雜質(zhì)越多，涂層質(zhì)量越差。一般來說，黃金相對穩(wěn)定，空氣可以用作等離子體氣源，而許多其他靶材需要惰性氣體。

6.氣體原子序數(shù)越高，動量越大，濺射越快，但晶粒越厚，連續(xù)膜層越厚。

7.保持真空室的清潔對高質(zhì)量有很大好處。

8.不要讓機(jī)械真空泵長時間保持極限真空，否則容易反油。

離子濺射鍍膜機(jī)的工作原理是在一定的真空條件下，在氣體離子或蒸發(fā)物離子的轟擊下，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基板表面形成薄膜。離子濺射鍍膜機(jī)有兩種涂層方法，一種是蒸發(fā)離子涂層，另一種是濺射離子涂層。