離子濺射鍍膜機(jī)，顧名思義，是一種磁性控制涂層技術(shù)。磁性控制濺射分為直流磁性控制濺射、中頻磁性控制濺射和射頻磁性控制濺射。不同的涂層材料和不同的技術(shù)。影響膜結(jié)構(gòu)附著力和密度的因素是什么？
一、離子濺射鍍膜機(jī)濺射閾值：
將目標(biāo)原子濺出所需的入射離子Z小能量值。它與入射離子的類型和目標(biāo)材料無關(guān)。當(dāng)能量離子量超過濺射閾值時，隨著離子能量的增加，在150ev過去，濺射產(chǎn)量與離子能平方成正比；ev~1kev濺射產(chǎn)量與離子能量成正比kev~10kev濺射產(chǎn)量在范圍內(nèi)變化不明顯；能量再次增加，但濺射產(chǎn)量呈下降趨勢。以下是幾種金屬用不同的入射離子轟擊的濺射閾值。
二、離子濺射鍍膜機(jī)濺射產(chǎn)量：
當(dāng)進(jìn)入離子并擊中目標(biāo)時，每個正離子可以從目標(biāo)中輸出平均原子。影響因素主要包括以下幾個方面：
1.隨著目標(biāo)原子序數(shù)的變化，濺射產(chǎn)量表現(xiàn)出一定的周期性。隨著目標(biāo)原子D殼電子填充的增加，濺射產(chǎn)量增加（總體變化趨勢）。
2.入射離子類型對濺射產(chǎn)量的影響。
濺射產(chǎn)量隨著入射原子序數(shù)的增加而周期性增加。
相應(yīng)于45Kev各種入射離子、銀、銅、鉭濺射產(chǎn)量
3.離子入射角度對濺射產(chǎn)量的影響。
當(dāng)角度增加到70時，同一靶材和入射離子的濺射產(chǎn)量隨著離子入射角的增加而增加?~80?濺射產(chǎn)量大。進(jìn)入射角繼續(xù)增加，濺射產(chǎn)量急劇下降，90?濺射產(chǎn)量為零。
4.目標(biāo)材料溫度對濺射產(chǎn)量的影響。
一般來說，在一定的溫度范圍內(nèi)，可以認(rèn)為濺射產(chǎn)量與升華能量密切相關(guān)，濺射產(chǎn)量幾乎不會隨著溫度的變化而變化。當(dāng)溫度超過此范圍時，濺射產(chǎn)量急劇增加。
以上就是小編今日為大家介紹的離子濺射鍍膜機(jī)，感謝大家耐心地閱讀！
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