分析多弧離子鍍膜機(jī)的工作原理
多弧離子鍍膜機(jī)通常需要質(zhì)譜來(lái)控制其涂層過程，而旋轉(zhuǎn)質(zhì)譜是一種能量平衡質(zhì)譜。它是基于離子在正交高頻電場(chǎng)和直流磁場(chǎng)中的旋轉(zhuǎn)共振現(xiàn)象。其基本原理于1949年提出。1951年，托馬斯（托馬斯）首次開發(fā)了質(zhì)譜儀。1954年，阿爾伯特制作了一種簡(jiǎn)單的旋轉(zhuǎn)質(zhì)譜儀，用于分析超高真空下的殘留氣體，極大地促進(jìn)了超高真空技術(shù)的發(fā)展。到1960年，克洛普弗（克洛普弗）開發(fā)了一種復(fù)雜的旋轉(zhuǎn)質(zhì)譜儀，可以消除共振離子空間電荷的影響，質(zhì)譜儀的靈敏度可以在10%范圍內(nèi)保持不變，從而使定量分析成為可能。然而，存在參數(shù)調(diào)整困難、結(jié)構(gòu)復(fù)雜、內(nèi)部電極不易完全排氣等缺點(diǎn)。
由于旋轉(zhuǎn)質(zhì)譜計(jì)的分析器和離子源在較小的空間內(nèi)，電場(chǎng)會(huì)受到非共振離子的干擾。因此，為了克服非共振離子引起的電場(chǎng)畸變，在簡(jiǎn)單旋轉(zhuǎn)質(zhì)譜計(jì)的基礎(chǔ)上開發(fā)了復(fù)雜的旋轉(zhuǎn)質(zhì)譜計(jì)，其性能比簡(jiǎn)單旋轉(zhuǎn)質(zhì)譜計(jì)更穩(wěn)定。
質(zhì)譜儀的主要參數(shù)包括：靈敏度常數(shù)、旋轉(zhuǎn)共振頻率、質(zhì)量M+△M的最大半徑、分辨率、共振離子的最終能量、軌跡長(zhǎng)度、飛行時(shí)間和旋轉(zhuǎn)圈數(shù)。
優(yōu)點(diǎn)：零件少，電極薄，體積小，排氣少，記憶效果差，特別適合超高真空小體積殘留氣體分析。
缺點(diǎn)：操作不方便，質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)不線性，需要磁場(chǎng)，光譜自動(dòng)記錄復(fù)雜，不能用電子倍增器檢測(cè)，可檢壓力限制最小。
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