電弧離子鍍膜機(jī)的工藝原理是什么？
在真空陰極真空弧光放電理論的基礎(chǔ)上，研究了電弧離子鍍膜機(jī)的技術(shù)原理。通過(guò)對(duì)冷陰極真空弧光放電理論的分析，可以實(shí)現(xiàn)放電活動(dòng)中正離子電流機(jī)制與現(xiàn)場(chǎng)電子發(fā)射機(jī)制的相互影響和限制。因此，放電活動(dòng)中的陰極材料需要大量蒸發(fā)，許多蒸汽分子產(chǎn)生一些正離子，可以在陰極附近產(chǎn)生超強(qiáng)電場(chǎng)，從而促進(jìn)影響電子觸發(fā)的現(xiàn)場(chǎng)電子發(fā)射機(jī)制，導(dǎo)致電子發(fā)射到真空環(huán)境。
計(jì)算電子發(fā)射電流密度的方法如下：
電流密度=BEExp(-C/E)
注:計(jì)算公式E指陰極電場(chǎng)強(qiáng)度；B指陰極材料與C的相關(guān)系數(shù)；單位為A/cm。
由于不可能準(zhǔn)確地建立和解決陰極電弧光點(diǎn)、能量和質(zhì)量之間的平衡關(guān)系，因此仍難以計(jì)算設(shè)備放電活動(dòng)電流密度理論。
因?yàn)樗婕瓣帢O電弧光點(diǎn)的離子。陰極電弧光點(diǎn)是一種高電流密度、高速變化現(xiàn)象，位于一個(gè)非常小的空間內(nèi)。該機(jī)制尚不完全清楚，但我們可以理解以下解釋：
金屬離子被吸入陰極表面，產(chǎn)生空間電荷層。這里觸發(fā)的強(qiáng)電場(chǎng)會(huì)使陰極表面的微裂紋或晶界射出電子。
一些高密度電子點(diǎn)會(huì)產(chǎn)生高密度電流，產(chǎn)生焦耳熱，提高溫度，發(fā)射熱電子。這種現(xiàn)象導(dǎo)致局部集中電流。
局部電流產(chǎn)生的焦耳熱會(huì)導(dǎo)致陰極材料大量離子和電子發(fā)射，釋放熔融陰極材料顆粒，留下放電痕跡。
大量離子中的部分離子將被吸回陰極材料表面，再次產(chǎn)生空間電荷層和強(qiáng)電場(chǎng)，新的功率函數(shù)點(diǎn)將再次開(kāi)始電子發(fā)射。
以上就是小編今日為大家介紹的電弧離子鍍膜機(jī)，感謝大家耐心的閱讀！
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