真空腔室尺寸:Φ600×H500mm;
基片臺尺寸:Φ200mm;
襯底溫度:600~1100℃;
真空腔室尺寸:Φ600×H500mm;
基片臺尺寸:Φ200mm;
襯底溫度:600~1100℃;
產(chǎn)品概述:
1.適用范圍:適用于各單位實驗室、高校實驗室、教學等項目的科研、產(chǎn)品中試。
2.產(chǎn)品優(yōu)點和特點:熱絲金剛石設備采用熱絲化學氣相沉積技術(shù),已應用于國內(nèi)許多熱絲生產(chǎn)線。該設備生產(chǎn)了大型片狀多晶金剛石厚膜,取得了相當大的經(jīng)濟效益。熱絲金剛石設備適用于工業(yè)生產(chǎn)、科研、教學和產(chǎn)品試驗。
3.主要用途:用于生長毫米級金剛石厚膜、金剛石薄膜、類金剛石薄膜、氮化硅和氧化硅薄膜。納米金剛石薄膜和微晶金剛石薄膜沉積在切割工具、鉆頭、絲錐等表面。也可以制備硼金剛石電極、BBD電極和金剛石電極膜。
參數(shù):
型號 | HF600 |
真空腔室結(jié)構(gòu) | 立式前開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷 |
真空腔室尺寸 | Φ600×H500mm |
基片臺尺寸 | Φ200mm |
襯底溫度 | 600~1100℃ |
電源 | DC |
控制方式 | PC+PLC+觸摸屏控制 |
占地面積 | 主機L1620×W1060×H1900mm |
總功率 | ≥43KW |
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研博產(chǎn)品中心