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真空升華提純爐 VDS40/80

真空升華提純爐 VDS40/80

真空腔室結(jié)構(gòu):不銹鋼雙層水冷;
真空腔室尺寸:Ф40/Φ80×800mm;
等溫區(qū)尺寸:三溫區(qū);
加熱溫度:不銹鋼外殼、鐵鉻鋁加熱、陶瓷纖維保溫;

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真空腔室結(jié)構(gòu):不銹鋼雙層水冷;
真空腔室尺寸:Ф40/Φ80×800mm;
等溫區(qū)尺寸:三溫區(qū);
加熱溫度:不銹鋼外殼、鐵鉻鋁加熱、陶瓷纖維保溫;

一、設(shè)備概述

1、適用范圍:廣泛用于高校、科研院所及企業(yè)的研發(fā)小批量生產(chǎn)。

2、產(chǎn)品特點(diǎn):設(shè)備操作簡(jiǎn)單、真空度高、溫區(qū)多、可通氣氛。

3、主要用途:

在成熟管式加熱爐基礎(chǔ)上,結(jié)合備提純物;

利用有機(jī)小分子材料物理特性及相關(guān)提純工藝研發(fā)的三溫區(qū)高真空升華提純爐。廣泛用于OLED等新型合成材料升華提純實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)之用,替代進(jìn)口材料,節(jié)約材料成本;可用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié);高溫?zé)峤獾蜏谻VD沉積薄等。

 

二、技術(shù)參數(shù)

真空腔室結(jié)構(gòu)

不銹鋼雙層水冷

真空腔室尺寸

Ф40/Φ80×800mm

爐膛尺寸


等溫區(qū)尺寸

三溫區(qū)

加熱溫度

不銹鋼外殼、鐵鉻鋁加熱、陶瓷纖維保溫

控制方式

PLC控制

占地面積

主機(jī)L1400mm×W600mm×H1380mm

總功率

≥6KW

 


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