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粉體鍍膜涂層設(shè)備 JGCF650

粉體鍍膜涂層設(shè)備 JGCF650

鍍膜方式:磁控濺射;
真空腔室:Φ800×L800mm;
鍍膜粉量:500克;
粉體尺寸:≥20um;

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鍍膜方式:磁控濺射;
真空腔室:Φ800×L800mm;
鍍膜粉量:500克;
粉體尺寸:≥20um;

一、產(chǎn)品概述

1、適用范圍:

在微米級(jí)以上粉體顆粒表面沉積各種納米級(jí)單層及多層導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜等;

可用于粉體顆粒表面金屬化,由顆粒表面絕緣性質(zhì)通過在表面涂覆金屬層達(dá)到表面導(dǎo)電,例:碳化硅表面鍍鈦,氧化鋁表面鍍鎳等;

可用于粉體顆粒表面反射率的改變,應(yīng)用于化妝品、汽車等高端外觀粉體涂料,例:玻璃微珠鍍氧化鈦等;

可用于粉體顆粒表面層成份改變,應(yīng)用于新型合金材料改變其中某一成份含量;

可用于粉體顆粒表面沉積新材料,有效提高粉體固化粘結(jié)強(qiáng)度,例:金剛石粉鍍鉻等。

2、產(chǎn)品特點(diǎn):

該設(shè)備粉體顆粒涂覆技術(shù)先進(jìn),微米級(jí)粉體包覆率大于90﹪,結(jié)合力好;已能實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品系列化滿足科研及批量化生產(chǎn)之需求。

 

二、技術(shù)參數(shù)

鍍膜方式

磁控濺射

真空腔室

Φ800×L800mm

鍍膜粉量

500

粉體尺寸

20um

粉體運(yùn)動(dòng)方式

滾筒震動(dòng)式

濺射源

4英寸圓形平面靶2只

控制方式

PC/PLC控制可選

占地面積

主機(jī)L1620×W1060×H1900mm

總功率

20KW


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