抽速:空載從大氣抽至5.0×10-3Pa≤20min;
控制方式:PLC+觸摸屏控制方式;
真空指標(biāo):極限真空優(yōu)于6.6×10-4Pa(設(shè)備空載抽真空24小時(shí));
抽速:空載從大氣抽至5.0×10-3Pa≤20min;
控制方式:PLC+觸摸屏控制方式;
真空指標(biāo):極限真空優(yōu)于6.6×10-4Pa(設(shè)備空載抽真空24小時(shí));
一.整機(jī)簡述:
PLC觸摸屏控制,操控方便,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等;
1. 在微米級(jí)以上粉體顆粒表面沉積各種納米級(jí)單層及多層導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜
2.系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面金屬化,由顆粒表面絕緣性質(zhì)通過在表面涂覆金屬層達(dá)到表面導(dǎo)電,例如:金剛石顆粒表面鍍鉻、碳化硅表面鍍鈦,氧化鋁表面鍍鎳等。
3.系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面反射率的改變,應(yīng)用于化妝品、汽車等高端外觀粉體涂料,例如:玻璃微珠鍍氧化鈦等;
4.系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面層成份改變,應(yīng)用于新型合金材料改變其中某一成份含量;
5.系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面沉積新材料,有效提高粉體固化粘結(jié)強(qiáng)度,例如:金剛石粉鍍鉻等;
6.廣泛應(yīng)用于粉體燒結(jié)、3D打印原材料、粉體表面光學(xué)性能改變等行業(yè)及研究方向;
二.設(shè)備主要技術(shù)參數(shù):
1真空腔室
φ350 mm×H350mm, 304優(yōu)質(zhì)不銹鋼真空腔室;
2真空系統(tǒng)
復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空氣/電動(dòng)閥門高真空系統(tǒng),數(shù)顯復(fù)合真空計(jì);
3真空指標(biāo)
極限真空優(yōu)于6.6×10-4Pa(設(shè)備空載抽真空24小時(shí));
設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h
4抽速
空載從大氣抽至5.0×10-3Pa≤20min;
5粉體托盤
不銹鋼粉體托盤內(nèi)尺寸:Φ90mm x25mm,
含高頻振動(dòng)裝置,擺動(dòng)頻率0-10次/min可調(diào),可放入30克粉振動(dòng)鍍膜;
襯底加熱:室溫~300℃,PID智能控溫;
6濺射靶及電源
2英寸磁控濺射靶2只,磁控靶可兼容直流/射頻電源濺射;
1臺(tái)1kw直流脈沖濺射電源,1臺(tái)500W自動(dòng)匹配射頻濺射電源;
7控制方式
PLC+觸摸屏控制方式;
8報(bào)警及保護(hù)
對(duì)泵、靶、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施;完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)。
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