TSU650高真空多功能鍍膜系統(tǒng)
極限真空：6.0×10-5Pa；
漏率：設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h；
整機(jī)功率：約40/60kW (視具體配置)；
極限真空：6.0×10-5Pa；
漏率：設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h；
整機(jī)功率：約40/60kW (視具體配置)；
一、功能描述：
特點(diǎn)/用途
該系統(tǒng)為高真空新型陰極弧源 +磁控濺射+離子源及直流脈沖偏壓電源輔助聯(lián)合鍍膜系統(tǒng)，該系統(tǒng)廣泛用于精密刀具和模具或軸承等外表面內(nèi)表面上沉積高性能耐磨擦、耐腐蝕陶瓷、金屬功能導(dǎo)電薄膜等，如TiAlN、TiN、Cu、Al、ITO等；
設(shè)備功能強(qiáng)大，可靈活集成主流先進(jìn)的硬件配置及工藝技術(shù)路線，便于開發(fā)及應(yīng)用先進(jìn)納米薄膜技術(shù)；是一款理想納米材料科學(xué)應(yīng)用平臺；
該設(shè)備一體化設(shè)計(jì)集成度高，開放式工藝菜單編輯，一鍵化操作，工藝參數(shù)存儲及曲線查詢，完備的保護(hù)，非常適合科研、中試及批量工業(yè)生產(chǎn)之需求；
二、技術(shù)性能指標(biāo) | |
1.真空腔室尺寸 | 雙層水冷不銹鋼腔體：尺寸為φ650×H650mm，前開門結(jié)構(gòu)； 四只可互換矩形法蘭接口；一體化設(shè)計(jì)； |
2.極限真空、抽氣速率 | 極限真空：6.0×10-5Pa（加熱除氣，設(shè)備空載抽真空24小時(shí)）； 復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空閥門組合的高真空系統(tǒng)； 抽速：從大氣到6.6×10-3Pa≤30分鐘（空載）； |
3.漏率 | 設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h； 設(shè)備保壓：停泵12小時(shí)候后，真空≤10Pa； |
4.公自轉(zhuǎn)工件架 | 約φ490×H400mm，電機(jī)驅(qū)動4~6工位公/自轉(zhuǎn)工件架，(可依據(jù)工件大小設(shè)計(jì)) 公轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)速度：0～5RPM，轉(zhuǎn)速可調(diào)可控； 可選擇公自轉(zhuǎn)+定位自轉(zhuǎn)功能，雙電機(jī)驅(qū)動； |
5.加熱溫度 | 加熱溫度：室溫～500±1℃； 【工模具鍍膜（配多?。┑冗x擇】； 加熱溫度：室溫～350±1℃； 【僅磁控濺射功能時(shí)選擇】 鎧裝加熱器，日本導(dǎo)電PID智能溫控系統(tǒng)閉環(huán)控制加熱系統(tǒng)； |
6.鍍膜主要配置 | ①φ100mm規(guī)格新型陰極弧源及配套160A弧電源；數(shù)量：2-6只選配 ②L500×W80mm矩形磁控濺射靶及配套電源；數(shù)量：2-3只選配 ③L500mm陽極層離子源及配套電源；選配 ④LZY-N-160新型離子源及電源；（適合金屬刀具硬質(zhì)涂層） （上述弧源、矩形靶、離子源數(shù)量根據(jù)客戶具體需求配置） |
源擋板系統(tǒng)：一套，電機(jī)驅(qū)動，關(guān)閉時(shí)可實(shí)現(xiàn)靶材清洗，不污染工件，定位準(zhǔn)確，高溫運(yùn)轉(zhuǎn)靈活無卡滯； | |
單極脈沖偏壓電源：輔助沉積12/24kW(可選)，一臺； | |
7.電氣控制 | PC+PLC+液晶屏全自動控制；帶工藝儲存，記憶、拷貝等功能；有數(shù)據(jù)生成曲線界面。 具有斷水自動報(bào)警保護(hù)系統(tǒng)； |
8.整機(jī)功率 | 約40/60kW (視具體配置)； |
9.占地面積 | 主機(jī)L2800mm×W1200mm×H1950mm |
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