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蒸發(fā)鍍膜設(shè)備使用真空蒸發(fā)涂層法（以下簡稱真空蒸發(fā)涂層）是在真空室加熱蒸發(fā)容器中形成薄膜的原料，使其原子或分子從表面氣化，形成蒸汽流，進(jìn)入固體（稱為基底或基底）表面，凝結(jié)形成固體薄膜的方法。由于真空蒸發(fā)法或真空蒸發(fā)法的主要物理過程是通過加熱蒸發(fā)材料產(chǎn)生的，也被稱為熱蒸發(fā)法。用這種方法制作薄膜。它已經(jīng)有幾十年的歷史了，并被廣泛使用。近年來，該方法的改進(jìn)主要集中在蒸發(fā)源上。為了抑制或避免薄膜原料與蒸發(fā)加熱器的化學(xué)反應(yīng)，使用耐熱陶瓷坩堝，如BN坩堝。采用電子束加熱源或激光加熱源蒸發(fā)低蒸氣壓物質(zhì)。為了制造成分復(fù)雜或多層復(fù)合膜，開發(fā)了多源共蒸發(fā)或順序蒸發(fā)法。為了制備化合物膜或抑制膜成分對原材料的偏差，出現(xiàn)了反應(yīng)蒸發(fā)法。

蒸發(fā)鍍膜設(shè)備真空蒸發(fā)涂層原理：

它將薄膜材料放置在真空涂層室中，并通過蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)。當(dāng)蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基板之間的線尺寸時(shí)，蒸發(fā)顆粒從蒸發(fā)源表面逃逸，很少受到其他顆粒（主要是殘余氣體分子）的碰撞，可直接到達(dá)基板表面，形成薄膜。

蒸發(fā)鍍膜設(shè)備真空涂層的特點(diǎn)：

真空蒸鍍法的優(yōu)點(diǎn)：設(shè)備簡單，操作方便；薄膜純度高，質(zhì)量好，厚度控制準(zhǔn)確；成膜速度快，效率高；薄膜生長機(jī)制簡單。