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電弧離子鍍膜機(jī)的工作原理主要基于冷陰極真空電弧放電理論。

電弧離子鍍膜機(jī)的突出特點(diǎn)是，它可以產(chǎn)生由高離子蒸發(fā)材料組成的等離子體，其中離子具有較高的動(dòng)能。蒸發(fā)、分離和加速集中在陰極點(diǎn)及其附近的小區(qū)域。

電弧離子鍍膜機(jī)的特點(diǎn)如下：

1、明顯的特征是等離子體直接從陰極產(chǎn)生。

2、能量高、涂層密度高、強(qiáng)度和耐久性好的入射顆粒。

3、離化率高，一般可達(dá)60%~80%。

4、沉積速度快，繞鍍性好。

5、設(shè)備簡(jiǎn)單，低壓電源工作安全。

6、一弧多用，不僅是蒸發(fā)源和離化源，也是加熱源和離子濺射清洗的離子源。

7、增加磁場(chǎng)可以改善電弧放電，細(xì)化電弧，細(xì)化涂層顆粒，提高帶電顆粒的速度，提高陰極靶面蝕刻的均勻性，提高目標(biāo)材料的利用率。