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薄膜制造技術(shù)在電子產(chǎn)品中的應(yīng)用主要包括集成電路和半導(dǎo)體涂層，各種顯示元件的涂層，電子管以及傳感器等領(lǐng)域。關(guān)于半導(dǎo)體以及各種顯示元件的涂層在此前已有相關(guān)介紹，本文主要講述蒸發(fā)鍍膜設(shè)備在電子管以及傳感器領(lǐng)域的應(yīng)用。

一、電子管

1.光電導(dǎo)面，鍍膜靶材為CdS?,Se-As-Te,ZnSe,PbO，采用蒸發(fā)鍍膜工藝成膜。

2.透明電導(dǎo)膜，鍍膜靶材為SnO,In?O?，采用蒸發(fā)或?yàn)R射工藝成膜。

3.電極，鍍膜靶材是Cr,Cu(Au)，采用蒸發(fā)鍍膜工藝成膜。

二、傳感器

1.約瑟夫遜器件，用于超級(jí)計(jì)算機(jī)。

(1)約瑟夫遜組合，鍍膜靶材為PbO+In?O,Pb,Nb,NbN,V?Si，采用蒸發(fā)或?yàn)R射工藝成膜。

(2)絕緣膜，鍍膜靶材為SiO?,SiO，采用蒸發(fā)或?yàn)R射工藝成膜。

(3)電極，鍍膜靶材為Au+Pb+In,Pb+Au+Pb，采用蒸發(fā)鍍膜工藝成膜。

2.磁泡，用于計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)器。

(1)傳感器(泡沫)，鍍膜靶材為Fe-Ni，采用蒸發(fā)或?yàn)R射工藝成膜。

(2)絕緣膜，鍍膜靶材為Al-Cu，采用蒸發(fā)鍍膜工藝成膜。

(3)電極，鍍膜靶材為SiO?，采用濺射涂膜工藝成膜。

3.磁盤，用于計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)器。

傳感器，涂層靶材為Fe,CO,Fe?O?,Fe?O?，采用蒸發(fā)或?yàn)R射工藝成膜。