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電弧離子鍍膜機(jī)薄膜均勻性的概念？電弧離子鍍膜機(jī)主要是指需要在高真空度下進(jìn)行的一種鍍膜，包括真空電阻加熱蒸發(fā)、電子槍加熱蒸發(fā)、磁控濺射等多種鍍膜，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積、離子束濺射等。主要思想是蒸發(fā)和濺射。

        電弧離子鍍膜機(jī)如下：

1.厚度的均勻性也可以理解為粗糙度。就光學(xué)薄膜的尺度而言(即以1/10波長為單位，約為100A），真空涂層的均勻性相當(dāng)好?？梢院苋菀椎貙⒋植诙瓤刂圃诳梢姽獠ㄩL的1/10范圍內(nèi)，也就是說，對于薄膜的光學(xué)特性，真空涂層沒有障礙。但是，如果是指原子層尺度的均勻性，則意味著實(shí)現(xiàn)10A甚至1A表面平整，具體控制因素將根據(jù)不同的涂層進(jìn)行詳細(xì)說明。

2.化學(xué)成分的均勻性：也就是說，在薄膜中，化合物的原子成分很容易因?yàn)槌叨忍《a(chǎn)生不均勻的特性，SiTiO3薄膜，如果涂層過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的成分就不是SiTiO3、可能是其他比例，鍍膜不是所需的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量。

3.晶格有序度的均勻性：這就決定了薄膜是單晶、多晶、非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問題。

以上就是今日小編為大家介紹的電弧離子鍍膜機(jī)，感謝大家耐心地閱讀！