大面積平板鍍膜設(shè)備
真空系統(tǒng)：國產(chǎn)或進(jìn)口分子泵/擴(kuò)散泵+羅茨泵+機(jī)械泵高真空系統(tǒng)；
極限真空：優(yōu)于2.0×10-4Pa；
抽速：從大氣到3.3×10-3Pa≤30min， 升壓率關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度≤10Pa；
工件架尺寸：可根據(jù)尺寸定制；
真空系統(tǒng)：國產(chǎn)或進(jìn)口分子泵/擴(kuò)散泵+羅茨泵+機(jī)械泵高真空系統(tǒng)；
極限真空：優(yōu)于2.0×10-4Pa；
抽速：從大氣到3.3×10-3Pa≤30min， 升壓率關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度≤10Pa；
工件架尺寸：可根據(jù)尺寸定制；
一、產(chǎn)品概述
1、主要用途：
適合在大面積玻璃、亞克力板、PC表面沉積納米級(jí)金屬膜（金、銀、銅、鋁、鉻等）、半導(dǎo)體膜（ITO、AZO等）、介質(zhì)膜（氧化鈦、氧化鉻、氧化鎢）、電致變色薄膜層等，廣泛應(yīng)用在光伏、光電、觸摸屏、半導(dǎo)體、平板電極及建筑裝飾玻璃等行業(yè)。
2、產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)及特點(diǎn)：
采用磁控濺射方式，沉積速率快，膜層均勻致密，光亮度好，在大面積上的鍍膜不均勻性≤±5%，特別適合有功能性要求的膜層制備及控制；例：鍍膜導(dǎo)電膜層，電阻值均勻可控，可以控制為穩(wěn)定電阻，也可控制為漸變電阻。加上自主開發(fā)全自動(dòng)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)一鍵化操作；保證產(chǎn)品鍍膜性能連續(xù)穩(wěn)定；設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì)，可根據(jù)生產(chǎn)量增加鍍膜模塊及其他拓展模塊，設(shè)備易拆卸、維護(hù)保養(yǎng)。
二、技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | JCPF1600-4500 |
真空系統(tǒng) | 國產(chǎn)或進(jìn)口分子泵/擴(kuò)散泵+羅茨泵+機(jī)械泵高真空系統(tǒng) |
極限真空 | 優(yōu)于2.0×10-4Pa |
抽速 | 從大氣到3.3×10-3Pa≤30min， 升壓率關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度≤10Pa |
工件架尺寸 | 可根據(jù)尺寸定制 |
工件烘烤溫度 | 室溫～300℃，可調(diào)可控（PID控溫） |
配置 | 弧源、蒸發(fā)電極、矩形磁控靶、離子源、偏壓可選 |
系統(tǒng) | 全自動(dòng)控制系統(tǒng)，個(gè)性化的Tech-Coating控制菜單，安全保護(hù)系統(tǒng) |
Products
研博產(chǎn)品中心
