離子濺射鍍膜機(jī)是一種結(jié)構(gòu)緊湊的桌面涂層系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品的高質(zhì)量涂層。樣品的干燥和清潔是離子濺射涂層的基本要求。必要時(shí)，交換樣品和陰極位置，用火花放電清潔樣品表面，然后恢復(fù)樣品，然后濺射涂層。鎳、銅、鉛是該儀器常用的陰極材料，有時(shí)是電剛金、鉑、鈀、鎵和其他金屬也可用作陰極材料。
一、離子濺射鍍膜機(jī)工作原理：
直流冷陰極二極管，靶材常溫，負(fù)高壓1-3kv，陽極接地。當(dāng)高壓連接時(shí)，陰極發(fā)射電子，電子能量增加到1-3kev，轟擊低真空(3-10)pA)氣體，使其電離，刺激電子在電場(chǎng)中加速，繼續(xù)轟擊氣體，產(chǎn)生聯(lián)電離，形成等離子體。離子為1-3kev當(dāng)能量高于靶原子的結(jié)合能時(shí)，靶原子或原子簇脫離靶，與等離子體中的殘余氣體發(fā)生碰撞，因此方向不同。當(dāng)它落在樣品表面時(shí)，可以在粗糙的樣品表面形成厚度均勻的金屬薄膜，與樣品結(jié)合強(qiáng)度高。如果工作室內(nèi)的氣體繼續(xù)流動(dòng)，保持恒壓，則離子流保持恒定。高壓功率決定離子流大小，一般有大離子流限制，用于保護(hù)高壓電源。
二、離子濺射鍍膜機(jī)操作：
1、一般工作距離可調(diào)，距離越近，濺射速度越快，但熱損傷會(huì)增加。
2、通過控制真空壓力實(shí)現(xiàn)離子流的大小，真空度越低，濺射速度越快，原子晶粒越厚，電子轟擊樣品（陽極）產(chǎn)生的熱量越高。真空度越高，濺射速度越小，原子晶粒越小，電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量越小。
3、加速電壓是固定的，也是可調(diào)的，加速電壓越高，對(duì)樣品的熱損傷就越大。一般采用金屬靶材的正比區(qū)域。
4、一些熱敏樣品需要冷卻樣品區(qū)域、水冷或帕爾貼冷卻。磁控裝置也可以像電磁透鏡一樣偏離樣品。經(jīng)過這樣的改造，會(huì)增加很高的成本。一層金屬可以濺到石蠟表面，沒有任何損壞！
5、真空中的雜質(zhì)越多，涂層質(zhì)量就越差。一般來說，黃金相對(duì)穩(wěn)定，空氣可以作為等離子體氣源，而許多其他靶材需要惰性氣體。
6、氣體原子序數(shù)越高，動(dòng)量越大，濺射越快，但晶粒越厚，連續(xù)膜層越厚。
7、保持真空室清潔對(duì)優(yōu)質(zhì)涂層有很大的好處。
8、不要讓機(jī)械真空泵長(zhǎng)時(shí)間保持極限真空，否則容易反油。
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