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離子濺射鍍膜機(jī)的基本工藝

離子濺射鍍膜機(jī)是利用氣體放電在真空條件下部分離氣體或被蒸發(fā)物，在氣體離子或被蒸發(fā)物離子轟擊的同時，將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基底上。它具有蒸發(fā)鍍沉積速度快、離子濺射鍍膜機(jī)沖擊清潔表面的特點，特別是膜附著力強(qiáng)、繞射性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點，因此該技術(shù)發(fā)展迅速。

濺射涂層是指利用荷能粒子在真空室中轟擊靶表面沉積在基板上的技術(shù)，實際上是利用離子濺射鍍膜機(jī)現(xiàn)象制作各種膜。

離子濺射鍍膜機(jī)基本工藝如下∶

1、在真空室等離子體中產(chǎn)生正氬離子，并加速靶向負(fù)電位。

2、離子濺射鍍膜機(jī)在加速過程中獲得能量，并轟擊靶材料。

3、離子濺射鍍膜機(jī)通過物理過程從靶上沖擊(濺射)原子，靶具有所需的材料成分。

4、被撞擊(濺射)的原子遷移到基體表面。

5、濺射的原子在基體表面凝結(jié)形成薄膜，與靶材相比，薄膜具有與其基本相同的材料成分。

6、真空泵抽走了額外的材料。