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1.簡介：

磁控濺射鍍膜設備是一種小型磁控濺射涂層儀，其主要特點是設備體積小、結構簡單、操作方便、實驗室供電要求低。系列設備主要部件進口或國內較佳配置，提高設備穩(wěn)定性，自主開發(fā)的智能操作系統更好地保證復性和安全。

磁控濺射鍍膜設備標配2φ2英寸永磁靶。500W直流濺射電源(濺射金屬導電材料)。300W自動匹配射頻濺射電源(濺射絕緣材料，可選)，主要用于開發(fā)納米單層和多層金屬導電膜。半導體膜和絕緣膜。

2.主要技術參數：

腔室尺寸：1cr18Ni9Ti優(yōu)質不銹鋼，氬弧焊；

樣品臺尺寸：高度60~120mm可調，旋轉：0-20r/min可調；

真空系統：機械泵（TRP-12.3L/S）+脂潤滑分子泵（FF-63/80.70L/S）；

極限真空：8.0×10-5Pa；

真空抽速：大氣~8×10-4Pa≤20min；

真空測量：全程復合真空計，測量范圍：105Pa~10-5Pa；

磁控靶：2寸2（含靶擋板），與直流電源和射頻電源兼容；

濺射電源：500W直流濺射電源與300W自動匹配射頻電源（自選）；

質量流量計：國產20scm，50scm質量流量控制器各一套；

控制方法：PLC+觸摸屏智能控制系統，具有漏氣自檢及提示、通信故障自檢、維護提示等功能；

設備外觀：L60cm×W60cm×H96cm機電一體化機架，預留KF40與CF35法蘭接口；

設備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制（一火一零一地）；

       冷卻循環(huán)系統：水壓0.2~0.4MPa，水溫10~25℃，為設備相關水冷部件提供穩(wěn)定的制冷水；

以上就是小編為大家介紹的磁控濺射鍍膜設備，看完這篇文章相信大家應該有所了解了，感謝大家耐心的閱讀！